氣墊光學平臺是利用壓縮空氣形成氣墊支撐臺面、實現超低頻率隔振的精密實驗平臺，核心優勢是固有頻率低、隔振效率高、自動調平，廣泛用于對振動極敏感的光學、量子、半導體與精密測量場景。

　　本公司提供的BP-QF系列氣墊光學平臺特點：

　　1.采用(進口)半膜片式空氣彈簧，隔振性能好，固有頻率通常小于1～1.5Hz。

　　2.整體焊接支架，具有更好的剛性和穩定性。支架上方帶三個高度調整機構，支架下方帶升降高度機構和腳輪。

　　3.臺面材料為SUS410鐵磁不銹鋼，具有較好的耐腐蝕性能。

　　4.臺面厚度100/200/300mm，具有很好的厚重比和剛性。臺面側面采用黑色鋁塑板包邊，美觀、實用。

　　5.隔振效果好、性價比非常高的科研級光學平臺。

　　選購要點：

　　負載與尺寸：按設備總重、臺面均布/集中負載選型，預留 20% 余量。

　　隔振等級：普通光學選被動氣??；納米/量子場景選主動隔振。

　　臺面材質：標準用不銹鋼；需導磁/低膨脹可選特殊合金。

　　氣源條件：實驗室需0.4–0.6 MPa干燥無油壓縮空氣；無氣源選自帶靜音空壓機型號。

　　環境適應性：潔凈室選不銹鋼、密封結構；潮濕環境選防腐涂層。